국내 연구진이 흑린을 원자 한 층 두께로 떼어 내
반도체 재료로 사용할 수 있는 가능성을 처음 확인했다고 합니다.
인(P)에 고온 고압을 가하면 흑린이 되고,
흑린 표면에서 몇 층을 떼어 내면 머리카락 굵기의
10만 분의 1 수준인 0.5nm 정도의 '포스포린'이 된다고 합니다.
김근수 포스텍 물리학과 교수팀과 최형준, 이연진
연세대 물리학과 교수팀은 공동으로 포스포린에서
전류의 흐름을 자유자재로 제어하는데 성공했다고 합니다.
http://www.dongascience.com/news/view/7833
확인하실 수 있습니다.